2025年度 第3回定例会開催のお知らせ
【開催日時】
2025年12月12日(金)
講演会:13:30〜17:20
技術交流会:17:20〜18:30
【開催場所】
<会場>
大阪府立男女共同参画・青少年センター(ドーンセンター)特別会議室
<オンライン>
ウェビナー登録 - Zoom
【お申し込み方法】
こちらからお申し込みください。
<参加申し込み締め切り>
12月8日(月)16:00厳守
(オンライン参加の方は別途Zoomリンクを送付します)
【参加定員】
会場:80名(先着順)
オンライン:200名(先着順)
【プログラム】
テーマ「エネルギー」
| 13:10 | 開場(会場) |
| 13:20 | 開場(オンライン) |
| 13:30 | 堀邊会長あいさつ |
| 13:35~ 14:20 |
テーマ講演(1)「奥村組CRE戦略に基づいたZEB・ZEHへの取り組みについて」 講演要旨:奥村組の保有資産を素材に、目的が自社の技術開発でなく、居住性という顧客を意識した開発にチャレンジ。グランドコンセプトの設定からブランド展開を新部署が担った。開発に至った経緯と今後の展開を説明するとともに、居住性の柱となったZEHおよびZEBについて、奥村組での実例をもとにわかりやすく説明する。 |
| 14:30~ 15:15 |
テーマ講演(2)「都市ガスのカーボンニュートラル化に向けた大阪ガスのメタネーション技術開発について」 講演要旨:大阪ガスでは、未来の都市ガスであるe-メタンの社会実装に向けて様々な技術開発を進めています。本講演では、長岡市で実証を開始する大規模なサバティエメタネーション、大阪・関西万博で実施した生ごみとグリーン水素からのバイオメタネーション、エネルギー効率が非常に高まるSOECメタネーションなどに関する開発状況を紹介させていただきます。 |
| 15:25~ 16:10 |
テーマ講演(3)「カーボンナノチューブ電極を用いた有機薄膜およびペロブスカイト太陽電池の実証実験」 講演要旨:本講演では、単層カーボンナノチューブ(CNT)の薄膜を透明電極として用いた有機薄膜太陽電池およびペロブスカイト太陽電池の作製と実証実験について紹介します。Osaka Metro のe METRO MOBILITY TOWN(森ノ宮)および名古屋大学構内のカフェに設置した実証モジュールにより、CNT電極を用いた太陽電池の高い耐久性を確認しました。CNT電極太陽電池が実用的な太陽光エネルギー獲得デバイスとして有効であることを示し、今後の都市空間への展開可能性について議論します。 |
| 16:20~ 16:50 |
特別講演「中小機構の取り組みについて」 講演要旨:中小機構は、国の中小企業政策の中核的な実施機関として、起業・創業期から成長期、成熟期に至るまで、企業の成長ステージに合わせた幅広い支援メニューを提供しています。今回は、支援メニューのうち、経営相談、海外展開相談、BtoBマッチング支援サイト「J-GoodTech」、Go-Tech(旧サポイン)相談を中心にご紹介いたします。 |
| 16:50~ 17:35 |
基礎講座「半導体デバイスの動向」③「半導体エコシステムとOSATの役割」 講演要旨:世界的に拡大を続ける半導体市場。その成長を支える多様なプレーヤーの中でも、製造の最終工程である「後工程(組立・検査)」を担うOSAT(Outsourced Semiconductor Assembly and Test)企業は、半導体産業を支える重要な役割を果たしています。本セミナーでは、OSATの位置づけやファブレス・ファウンドリー・IDMとの関係を通じて、産業構造とエコシステムの実態、そして今後の展望を紹介します。 |
| 17:40~ 18:30 |
技術交流会 |
第3回定例会以降の日程と会場
第4回定例研究会: 3月13日(金)/会場:ドーンセンター(予定)
2025年度 第2回定例会開催のお知らせ
【開催日時】
2025年10月3日(金)
講演会:13:30〜17:20
技術交流会:17:20〜18:30
【開催場所】
<会場>
大阪府立男女共同参画・青少年センター(ドーンセンター)大会議室3
<オンライン>
ウェビナー登録 - Zoom
【お申し込み方法】
こちらからお申し込みください。
<参加申し込み締め切り>
9月29日(月)16:00厳守
(オンライン参加の方は別途Zoomリンクを送付します)
【参加定員】
会場:60名(先着順)
オンライン:200名(先着順)
【プログラム】
テーマ「AI・シンギュラリティ」
| 13:10 | 開場(会場) |
| 13:20 | 開場(オンライン) |
| 13:30 | 堀邊会長あいさつ |
| 13:35~ 14:25 |
テーマ講演(1)「半導体 x AIが牽引する日本発シン産業革命」 講演要旨:100兆円市場を形成した半導体、コロナ禍のサプライチェーンの断絶、そして紛争や保護貿易による経済安保への不安が増す今日この頃。一方、生成AIの社会実装によって、世界中でゲームチェンジが起ころうとする今、NIPPONのモノづくりの産業構造や、ビジネスモデルに変革が求められています。そこで、注目のアプリケーションを取り上げ、目の付け処を解説します。 |
| 14:35~ 15:25 |
テーマ講演(2)「製造業の次世代リーダー育成に生成AI活用スキルを取り込む!〜先端的取り組み事例から〜」 講演要旨: 製造業におけるAI活用を前提とする次世代リーダー育成の先端的取り組み事例に基づき、生成AI活用スキルの育成をモデル化する試みを紹介する。事例の中心は一般財団法人大阪科学技術センター(OSTEC)が2017年から主催する有料講習会「ネクストリーダー育成ワークショップ」である。本講習会は、参加企業が時代の変化に先回りして対応する機会を提供し続け、定評を得ていた。しかし、2023年頃から習得したい力などの講習会へのニーズが変化し始めた。2025年度はグループワークにおいて生成AIの積極的利用を指導するなど、生成AI活用を柱に据えたカリキュラムに切り替えている。 |
| 15:35~ 16:25 |
基礎講座「半導体デバイスの動向」② 講演要旨:2025年は2nm世代の最先端Logic半導体にGAAが搭載される。半導体における「開発とは何か」「量産とは何か」「歩留りとは何か」を定義した上で、TSMC、Samsung、Intel、Rapidusの戦略と現在地について論じる。 |
| 16:35~ 17:20 |
パネルディスカッション |
| 17:20~ 18:30 |
技術交流会 |
第2回定例会以降の日程と会場
第3回定例研究会: 12月12日(金)/会場:ドーンセンター(予定)
第4回定例研究会: 3月13日(金)/会場:ドーンセンター(予定)
2025年度 第1回定例会開催のお知らせ
【開催日時】
2025年7月4日(金)
講演会:13:30〜17:30
技術交流会:17:30〜18:30
【開催場所】
<会場>
大阪府立男女共同参画・青少年センター(ドーンセンター)大会議室3
<オンライン>
ウェビナー登録 - Zoom
【お申し込み方法】
こちらからお申し込みください。
<参加申し込み締め切り>
6月30日(月)16:00厳守
(オンライン参加の方は別途Zoomリンクを送付します)
【参加定員】
会場:60名(先着順)
オンライン:200名(先着順)
【プログラム】
テーマ「新材料・新技術・サステナブル」
| 13:10 | 開場(会場) |
| 13:15 | 開場(オンライン) |
| 13:20 | 2024年度会計報告会 |
| 13:35~ 14:20 |
テーマ講演(1)「家電におけるプラスチックリサイクル」 講演要旨: 家電業界では、2001年の家電リサイクル法が施行されて以来、再商品化率をあげるために様々な材料のリサイクルに取り組んできた。とりわけプラスチックについては、家電業界がリサイクルを技術的に牽引してきた経緯があり、様々な業界からも注目されている。本講演では、家電におけるプラスチックリサイクルの現状について紹介する。 |
| 14:30~ 15:15 |
テーマ講演(2)「インクジェット技術の最新動向」 講演要旨: インクジェット技術は、液滴を吐出するプリントヘッドの継続的な進化と、アプリケーションに最適化されたインクの開発により、高品位と高生産性の両立を実現しています。これにより、商業印刷、テキスタイル、パッケージなど多様な分野で、従来のアナログ印刷からデジタル印刷への転換が加速しています。さらに、微細な液滴制御や多材料対応といった技術的特徴を活かし、エレクトロニクスや3Dプリンティングといった新たな分野への応用も進んでいます。本講演では、こうしたアプリケーションの拡大を支えるインクジェット技術の最新動向と、その技術的背景について紹介します。 |
| 15:25~ 16:10 |
テーマ講演(3)「乾式紙再生機のドライファイバー技術とその応用について」 講演要旨: 世界的に資源が循環し持続可能な社会の実現が求められている。当社はカーボンマイナス、地下資源省ゼロを目指した環境ビジョン2050を掲げ取り組んでいる。その中の一つとして、水を多く使うことなくその場で紙を再生できる世界初の乾式オフィス製紙機PaperLabを上市してきた。本講演では、この乾式紙再生機のコアとなるドライファイバー技術及びそれを応用したプラスチック、衣料再生開発の取組みを紹介する。 |
| 16:20~ 16:50 |
技術(会員)紹介「KRIの事業紹介と半導体材料やフッ素フリーに関する技術紹介」 講演要旨: 私たちKRIは、ヒマラヤ登山のナビゲーター「シェルパ」のようなお客様に寄り添った伴走型の新しい研究パートナーを目指しています。今回は世界でも珍しい事業形態を持つKRIの概要を説明するとともに、昨今話題の半導体材料に関連する熱マネジメント技術やPFAS規制への対応を目指したフッ素フリー撥水撥油技術など弊社の保有技術の一部を紹介します。 |
| 16:50~ 17:35 |
基礎講座「半導体デバイスの動向」①EUVリソグラフィの現状・課題、並びに今後の展望 講演要旨: 極端紫外線リソグラフィー(EUVL)は2019年から7 nm世代の半導体デバイスの製造に使用が開始された。これまで、兵庫県立大学はASET、SELETE、EUVA、EIDECの4つのEUVLに関する国家プロジェクトを21年間にわたり参画・主導してきた。この中で、レジスト材料・プロセスの研究、レジストとマスクの評価系をニュースバル放射光施設のビームラインに構築し、EUVL基盤研究を推進してきた。2024年9月には次世代EUVL研究寄附講座を立ち上げ、基礎研究を推進している。講演ではEUVLの現状・課題、並びに今後の展望について紹介する。EUVLは次世代EUVLを含め2039年のピッチ14-10 nmのパタン形成に使用される。 |
| 17:35~ 18:30 |
技術交流会 |
第1回定例会以降の日程と会場
第2回定例研究会: 10月3日(金)/会場:ドーンセンター(予定)
第3回定例研究会: 12月12日(金)/会場:ドーンセンター(予定)
第4回定例研究会: 3月13日(金)/会場:ドーンセンター(予定)
2025年度 特別定例会開催のお知らせ 協力:島津製作所
【開催日時】
2025年5月23日(金)
講演会・見学会:13:10〜16:30
技術交流会:16:30〜17:40
【開催場所】
<会場>
島津製作所 基盤技術研究所・みらい共創ラボ
<オンライン>
今回オンライン配信はありません。会場参加のみです
【お申し込み方法】
こちらからお申し込みください。
<参加申し込み締め切り>
5月20日(火)16:00厳守
【費用】
特別定例会参加費(交流会代込・当日支払)3000円
【参加定員】
会場:60名(先着順)
【プログラム】
| 12:20 | 開場 |
| 13:00 | 堀邊会長あいさつ |
| 13:10~ 13:50 |
特別講演(1)「Shimadzu みらい共創ラボにおけるオープンイノベーション」 講演要旨: 島津製作所の基盤技術研究所内に2022年5月に開所した「Shimadzu みらい共創ラボ」は、先端分析、革新バイオ、脳五感、AI(人工知能)などの研究領域を推進する共創空間です。オープンイノベーションを通じて新しい価値を創造し、社会課題の解決を目指しています。社外の研究機関や企業との連携を強化するための公募型共同研究プログラムやコーポレートベンチャーキャピタルといった新たな取り組みや、レーザーコーティング、塗膜検査、感性計測などの研究事例についてご紹介いたします。 |
| 14:00~ 14:40 |
特別講演(2)時代を読み解く、企業経営に必要な視点 講演要旨: 年間100社の企業取材を行いながら、上場企業の社外取締役を2社務める立場から企業経営に必要な視点をお話いたします。具体的に企業価値を高める方法や賃上げの事例をご紹介いたします。 |
| 14:50~ 15:30 |
特別講演(3)新型LCMS-TQ RXシリーズを用いた水中PFAS分析における効率化 講演要旨: PFAS(ペルおよびポリフルオロアルキル化合物)は、炭素骨格の多くまたはすべての側鎖がフッ素化されている化合物の総称で、化学的に有用な特性を有するため、非常に多岐にわたる製品に使用されていました。しかし、化学的安定性ゆえに環境中に残存しやすく、環境汚染物質の一つとして近年急速に分析需要が高まっています。本講演では、水サンプルを中心としたPFAS分析に関するノウハウや最新技術についてご紹介するとともに、島津製作所最新のLC-MS/MSについてご紹介いたします。 |
| 15:30~ 16:30 |
研究所の概要説明と見学 |
| 16:30~ 17:40 |
技術交流会 島津製作所 基盤技術研究所・みらい共創ラボ 食堂 |
25年度定例研究会以降の日程と会場
第1回定例研究会: 7月4日(金)/会場:ドーンセンター
第2回定例研究会: 10月3日(金)/会場:ドーンセンター(予定)
第3回定例研究会: 12月12日(金)/会場:ドーンセンター(予定)
第4回定例研究会: 3月13日(金)/会場:ドーンセンター(予定)
